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半導體廢水處理設備
發(fā)布時間： 2025/6/5 有效時間： 2025/12/5

詳細介紹

目前，沉淀法、離子交換法和氧化法是處理半導體廢水的有效手段。其中，氧化法是一種高效的電子半導體廢水處理技術，它通過氧化水中的有害物質及雜質，進而達到凈化水質的目的。氧化法有多種方式，如芬頓法、臭氧氧化法、臭氧光催化氧化法、光芬頓氧化法等。臭氧光催化氧化法和光芬頓氧化法分別是在臭氧氧化法和芬頓法的基礎上引入UV，在克服原有工藝氧化效果有限的同時，協(xié)同UV加速了羥基自由基的產生和污染物的去除。臭氧光催化氧化法是利用UV光催化系統(tǒng)，激發(fā) H2O2 及 O3 產生具有氧化性的羥基自由基，提高反應速率，加快COD的去除。光芬頓氧化法是把光（UV）引進芬頓體系，有效克服了普通芬頓反應的缺點。光芬頓是在UV高強光量子的激發(fā)下，加速Fe3+轉化為Fe2+，進而促進芬頓反應的進行和•OH產率的增加，實現有機污染物的高效去除。



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